ОПТИМИЗАЦИЯ ПРОЦЕССА НАПЫЛЕНИЯ РЕЗИСТИВНОГО СЛОЯ МЕТОДОМ МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ

Планируется в выпуске: 2/2019 (24)
Проведено исследование влияния режимов напыления и конструктивных параметров установки магнетронного напыления на равномерность резистивных пленок, формируемых на ситалловой подложке. Показано, что основными факторами, определяющими однородность резистивной пленки являются форма мишени и расположение подложек относительно магнетрона. Для получения однородных резистивных пленок предложено использовать мишени протяженной формы и горизонтальное расположение подложек в процессе напыления.

Новости

Полезные ресурсы