КОРРЕКТИРОВКА ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ РЕЖИМОВ ПОЛУЧЕНИЯ ПОДЗАТВОРНОГО ДИЭЛЕКТРИКА КМДП-ИС

Опубликовано в выпуске: 2/2016 (6)

Роль исходных материалов и особенности их обработки в разработке вольфрамово-медных композиций

Опубликовано: 25.12.2015
Опубликовано в выпуске: 4/2015 (4)

Термодинамическая модель легирования арсенида галлия бериллием в хлоридно-гидридной газофазной эпитаксии

Опубликовано в выпуске: 4/2015 (4)

ТЕХНИКА ОБРАБОТКИ ИСТОЧНИКОВ ЭЛЕКТРОНОВ С НАНОПОКРЫТИЯМИ ДЛЯ ИЗДЕЛИЙ КВАНТОВОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ

Опубликовано в выпуске: 4/2015 (4)

Алгоритмы моделирования динамики заряженных дислокаций в ультразвуковом поле

Опубликовано в выпуске: 3/2015 (3)

    Новости

    Полезные ресурсы